MPI 手動晶圓級探針臺系統TS150&TS200&TS300返回列表
TS150&TS200&TS300應用于測試半導體晶圓級、器件類電學特性，具備可以快速拖動樣品臺，更換樣品功能，并且有著獨特Platen平臺設計，測試重復性提高95%。
MPI 全系列探針臺具備模塊化設計,可搭配不同變倍比顯微鏡，同時與德國ERS聯合開發設計具有氣冷溫控技術的Thermal Chuck同步使用。
優點 :
• 適用于多種晶圓量測應用，如組件特性描述和建模，晶圓級可靠性 (WLR)、失效分析 (FA)、集成電路工程、微型機電系統 (MEMS) 和高功率 (HP)
氣浮式樣品移動系統
MPI獨特的氣墊載物臺設計，具有簡單的單手冰球控制，為操作人員提供了無與倫比的便利性，可實現快速XY導航和快速晶圓裝載，同時又不影響精確的定位功能，并具有精確的25×25 mmXY-θ 千分尺運動。
高度調整比例
探針臺工作臺面具有25毫米的精細高度調節，以支持各種應用。獨特的1mm精確刻度可提供有關當前位置的直接反饋。
多種卡盤選項
手動系統可提供多種卡盤選項，以滿足不同的預算和應用需求。 卡盤選件包括MPI的同軸、三軸、高功率chuck或各種ERS高低溫chuck，以支持高達300°C的溫度測量，熱觸摸控制器的無縫集成可快速便捷地進行操作。
緊湊而剛性的設計 Platen 平臺
緊湊而堅固的壓盤設計可容納多達十個DC或四個RF MicroPositioner，以滿足各種應用需求。高度可重復的壓板提升機設計具有三個不連續的位置，用于接觸，分離和加載，并帶有安全鎖實用程序，可實現輕松的步進和重復功能。此外，四端口RF MicroPositioner的矩形調節是保證RF探針之間對準的標準功能。
輔助AUX卡盤
射頻卡盤包括兩個專用陶瓷材料制成的輔助卡盤，用于精確的射頻校準。
多種光學系統選擇
提供多種光學器件，可以在用于普通DC / CV應用的立體聲或用于射頻配置的單管MPI SZ10或MZ12之間進行選擇。
